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       mamie_chm@126.com    
              
     
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              等離子增強化學氣相沉積PECVD 
              
            
              
              
                          
              
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               設備名稱 :等離子增強化學氣相沉積PECVD  
              
品牌型號: SAMCO PD-220NL 
              

              
設備用途
              
主要用于二氧化硅和氮化硅介質膜沉積
              

              
主要技術指標：
              
氣體：SIH4 CF4 PN2 NH3 N20 O2
              
沉積速率：> 30nm/min
              
均勻性：片內小于±5%，片間小于±5%，批次小于±5%
              

              
	
              

                    
        
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              手機：0532-86625732
              
        
              郵箱：mamie_chm@126.com
              
        
              地址：青島膠州市站前大道與204國道交叉路口北500米路西
              
		
               備案號：魯ICP備2021018823號
              
      
              
    
              
    
              
      
              
      
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              青島翼晨鐳碩科技有限公司
              
      
    
              
  
              


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